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사업소개

High Vacuum Chamber Dryer

대면적 진공 건조 장치(HVCD)

Introduction

대면적 디스플레이용 유기물 진공 건조 장치

Technology

  • 우수한 온도 균일도 : ±3℃ (10.5G 기판)

  • 세계 최고 건조 균일도 : ≤ 10% (10.5G 기판)

  • 양산 운영을 위한 적층 디자인 확보

  • 균일 진공도 형성을 위한 배기 시스템

Specification

  • Layout : 4260X4890X3085 (10.5G)

  • Base Pressure : 5X 10-5 torr

  • Pumping Speed : <2min (@7.5 X 10-5 torr)

진공물류장비

Introduction

  • LCD/OLED 공정 전,후의 진공 상태에서 건조,이송,적재 하는 장치이다.

Technology

  • Volume 최소화.

  • Sensor Dual Type 적용하여 안전성 확보.

  • Chamber 내부 CCTV 적용하여 실시간 확인.

  • O-ring Groove 형상 최적화 하여, Metal 갈림 방지 적용.

  • PM Chamber 보다 높은 압력 유지 하여 물류장비로 이물 유입 방지.

  • 공정가스 유입 확인용 Gas Detector 적용.

Specification

  • 진공도 : ≤ 5.0 x 10-7Torr (TBD)

  • 재질, 두께 : 사양에 따라 (TBD)

  • Sensor : Sample , Fork , Position 감지 적용

  • Gauge : ATM, Full Range, High, Middle Vacuum Gauge

  • Sample Type : Face Down, Face UP

  • 후처리 : SBB, Buffing , E.P , Anodizing

  • Tack Time : 50sec

  • Lid open : Auto Lid , Crain

  • Vent : CDA, N2 (Slow, Fast)

  • 응력, 변형률 : 215Mpa , 5mm 이하

Purifier

Introduction

LCD/OLED N2 Chamber의 순환식 가스정제기로 산소와 수분을 관리

Technology

  • Size 최소화.

  • 기존 Purifier 대비 정화용량 UP.(약 1.5배)

Specification

  • 용량 : 5m³ ~ 100m³

  • PPM : ≤ 1ppm (Oxygen / Moisture)

  • Type : Touch Panel / Ethernet I.O

  • 적용장비 : LCD, OLED TM, Buffer, Oven, etc

VIS (Vacuum Ionizing Source)

Introduction

고 진공용(진공도 불변) 실시간 제전 장치

OLED 제조 공정에서 Panel 이송 및 Align/Masking 반복 기구적 접촉 기인 발생

정전기 실시간 제전

Technology

  • Compact Size : 별도의 개조 없이 View Port 개조로 장착 가능

  • 진공도 불변 : 별도가스 미 사용(Chamber 잔존 가스 이온화)

  • Damage Free : 빛과 열 미 발생(OLED Damage Free)

  • 높은 안정성 및 내구성 확보 : 빛과 열 미 발생

Specification

  • 운영 진공도 : 10E-3 ~ 1.0E-5(Pa)

  • Size : Ø165, H:265

  • 재질 : SUS , SS41

  • 무게 : 7Kg

  • 사용전압 : DC 4kV , 0.1mA (이내)