2차 전지의 방열소재 및 분리막 소재로 사용되는 세라믹 파우더 열처리 시스템

• 범용적 사용가능한 시스템 : 운영 비용 감소 가능 기술

• 세계 최초 적층형 플라즈마 구조로 개발
  

• 열처리 온도와 열처리 반응 길이를 동시 조정가능
  

• 초 정밀 Feeder 적용으로 처리 오차 최소화 적용
  

• Plasma Source : MW 2.45GHz

• 공정 Gas: CDA (사용 Powder별 상이)

• 공정 환경: 대기/N2

• System & Source 냉각 방식: 수냉식

• 대응 가능 Power : 3kW부터 확장 가능

• 대응가능 Powder Size : 10 ~ 100um

• Powder 처리 능력(9kW기준): 15g/min

• Powder 포집율(%) : 90% 수준

• 제어 및 전원 사양: PLC 제어, 380V/3P

• 장비 크기(9kW기준): L 2,800xD 1,200xH 2,600 mm

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